位于首尔瑞草区的三星电子大楼。
据悉，韩国三星电子子公司的核心技术“超临界清洗设备”被泄露至中国，目前韩国地方法院已起诉4名涉嫌参与泄露技术的三星员工。
5月16日，韩国水原地方检察厅防卫工作暨产业技术犯罪刑事部以违反《不正当竞争和商业秘密保护法》相关法律的嫌疑，逮捕并起诉了三星电子的子公司SEMES的两名前研究员和另外两名合作公司的员工。
此次被泄露的“超临界清洗设备”是利用处于液态和气态之间的超临界二氧化碳清洗半导体基板的设备，该技术可以最大限度地减少对器材的损耗，降低超微半导体的次品率。据报，该设备被认为是三星尖端半导体芯片技术的关键。
SEMES于2018年在全球首次开发该技术，目前仅供货给三星半导体，包括SK海力士在内的韩国竞争公司也对此极为关注。据悉，三星电子和SEMES还签订了禁止开发人员转职的协议。
SEMES是三星电子旗下的一家半导体设备供应商（三星拥有90%以上的SEMES的股份），同时它也是韩国最大的半导体设备制造商。
检方调查显示，SEMES的两名退职研究人员2018年与中国某研究机构取得了联系，声称可以复制上述设备，并在此后制造出该设备并移交给了中方，获利八百多亿韩元（约6280万美元）。期间，SEMES的合作公司也有参与。
据KBS报导，他们利用合作公司技术安保意识相对较弱的特点，以高出原价3倍的价格购买零件，在短时间内将制造出相同设备。
三星电子方面就技术泄露一事表示，案件仍在调查中。
韩国检方认为，该案件的整体技术泄露是有人故意操纵，目前正在调查其背后势力。但负责人表示，目前无法透露更多细节。
