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传:中国国产DUV遭大量投诉

今年7月传出,晶圆代工龙头中芯国际已经量产7纳米芯片并出货给客户,代表大陆芯片业技术有突破性发展,这也触动美国的敏感神经,接连扩大制裁范围,双方交锋越演越烈。如今,有专家爆料,中芯的工程师自诉,大陆国产的DUV机台的效率并不好,甚至接到很多投诉电话,在机台方面仍需要仰赖外国技术。

今年7月传出,晶圆代工龙头中芯国际已经量产7纳米芯片并出货给客户,代表大陆芯片业技术有突破性发展,这也触动美国的敏感神经,接连扩大制裁范围,双方交锋越演越烈。如今,有专家爆料,中芯的工程师自诉,大陆国产的DUV机台的效率并不好,甚至接到很多投诉电话,在机台方面仍需要仰赖外国技术。

具体投诉哪些问题有待确认,良率问题?还是光刻机知识产权问题?芯榜将继续跟踪报道。

光刻机根据光源的不同,大致分为四大类,制程从低到高分别是g-line、i-line、DUV(KrF、ArF、ArFi)、EUV。

ASML不能自由出货EUV光刻机,仅仅靠DUV光刻机维持业务。若这块业务也不能做了,可想而知ASML往后在中国大陆的市场状态。

也许有人说了,ASML不是还有更低端的g-line,i-line光刻机吗?DUV不能出货就卖更低端的设备,总能保留市场。就这种级别的光刻机,国产早就实现突破了,上海微电子作为国内唯一的整机装备光刻机厂商,拿下g-line,i-line光刻机市场不是什么问题。

半岛电视台报道说,中芯国际量产7纳米的消息一出,美国先是禁止用来开发3纳米以下芯片的EDA软体出口,上周又限制英伟达、超微等厂商向大陆出口高阶人工智能芯片,打击大陆芯片业的举动可说是一波又一波。

中芯在无法取得ASML的EUV极紫外光曝光机的状况下,靠着DUV深紫外光曝光机推进技术,引起市场震撼,台湾工研院产业科技国际策略发展所研究总监Ray Yang表示,“中芯可以使用DUV生产7纳米,甚至进行量产,但这无法让生产过程具有成本效益,将DUV机台的技术推向极限,如同以F1的速度驾驶一般汽车。”

Ray Yang补充说道,“在此状况下,产品良率将会非常低,因此并不是优化先进制程的解决方桉,要将技术从7纳米继续往前推进几乎是不可能的。”

台媒体称若大陆想要跨进7纳米以下的先进制程,会需要ASML独家生产的EUV机台,然而在美国制裁下,大陆厂商无法拿到此设备,因此希望透过国产机台的方式取得突破,但过程并不容易。

半导体产业分析机构SemiAnalysis分析师Dylan Patel表示,“中芯的工程师自爆国产机器出现很多问题,甚至接到许多投诉,大陆还有办法生产好的ArF曝光机(其中一款DUV机台)大陆用外国机器生产芯片落后多年,而国产设备上则落后数十年。”

事实上,7月也传出美国有意施压ASML禁止出售DUV设备至大陆,但目前并没有实质上的动作,ASML曾警告,如果美国迫使公司停止向大陆出售DUV设备,全球半导体供应链将面临中断,因为大陆是重要的参与者。

责任编辑: 夏雨荷  来源:芯榜 转载请注明作者、出处並保持完整。

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