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跪了!这家竟做出“0.7奈米”芯片 台积电有危险?

艾司摩尔(ASML)还在为制造2奈米、1奈米必用极紫外光(EUV)设备努力之际,美国企业Zyvex在先进制程出现重大突破,宣布成功打造0.7奈米芯片的微影系统,而这种芯片主要用于量子电脑,不过这项技术缺点是产量很低,无法满足市场对芯片的大量需求,看来对台积电不构成威胁,EUV霸主地位也无可取代。

美国公司Zyvex宣布,成功挑战0.7奈米制程。(示意图/达志影像/shutterstock)

艾司摩尔(ASML)还在为制造2奈米、1奈米必用极紫外光(EUV)设备努力之际,美国企业Zyvex在先进制程出现重大突破,宣布成功打造0.7奈米芯片的微影系统,而这种芯片主要用于量子电脑,不过这项技术缺点是产量很低,无法满足市场对芯片的大量需求,看来对台积电不构成威胁,EUV霸主地位也无可取代。

据美国Zyvex公司官网介绍,新推出ZyvexLitho1微影系统,基于STM扫描隧道显微镜,使用EBL电子束微影技术,成功制造768皮米,也就是0.7奈米芯片,等同2个硅原子宽度,为目前世上制造精密度最高的微影系统。

目前ZyvexLitho1系统制造出来的芯片,主要用于量子电脑,可打造出高度精密的固态量子元件,以及奈米元件和材料,对量子电脑来说精密度相当重要。

Zyvex公司表示,已经可以接受其他客户订单,机器约在6个月内出货。

尽管EBL技术的精密度超越艾司摩尔EUV微影设备,但缺点是产量很低,无法满足大规模制造芯片的需求,只适合小量生产,因此不可能取代现有EUV霸主地位。

荷商艾司摩尔独家供应打造先进制程必备的EUV微影设备,目前客户包括台积电、英特尔和三星等半导体大厂。

日经新闻先前报导,被封为“全球半导体产业背后头脑”的比利时微电子研究中心(IMEC)表示,摩尔定律在全新技术配合之下,先进制程推进多少世代都没有问题。

IMEC提到,1奈米制程需向前跨进4世代,目前其路线图(Roadmap)已排定,预估在2027年就能实现,而最顶尖的0.7奈米制程可望在2029年之后量产。

责任编辑: 楚天  来源:中时 转载请注明作者、出处並保持完整。

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