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国产替代化加速!又有大陆业者购进ASML光刻机

A股上市公司上海新阳发布公告称,由上海芯刻微材料技术有限责任公司委托盛吉盛(宁波)半导体材料有限公司代理投标,成功得标购得艾司摩尔(ASML)光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28奈米的高端光刻胶。

上海新阳是大陆积体电路制造关键工艺材料供应商,最新公告显示,上海新阳的子公司成功购进一台光刻机。

公告指出,芯刻微11日向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机,剩余90%在六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

公司表示,积体电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大,公司为加速积体电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程,减少上市公司业绩压力,透过参股子公司芯刻微进行Ar湿法光刻胶的研发,并与协议各方承诺未来透过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式,避免可能的同业竞争。

上海新阳强调,光刻胶产品在积体电路材料中技术难度大,品质要求最高,开发周期长,且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。

公告称,这次购入的机型是ASML XT1900 Gi型的二手光刻机,但未披露价格。

第一财经报导,值得注意的是,这已经不是上海新阳第一次购入光刻胶产品。公司3月8日公告称,ASML-1400光刻机设备于当日已进入合作方北方积体电路技术创新中心(北京)场地,后续将进行安装调试等相关工作,对加快193奈米光刻胶产品开发进度有积极影响。

近期不少大陆上市公司都在购买光刻机。晶瑞股份1月19日公告顺利购得ASML XT1900 Gi型光刻机一台。中芯国际3月3日公告已于2月1日与ASML签订设备采购协定,此外,英诺赛科也公布今年拟购入光刻机设备。

自去年下半年以来,芯片缺货涨价已经成为半导体行业的主旋律。而光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料,决定半导体图形工艺的精密程度和良率,成为其中最受瞩目的环节。

中金公司曾指出,半导体设备和材料是高端制造业发展的基础,结合中芯国际潜在成熟制程获取美国设备许可证,建议关注上游设备及原材料的机会。

近期不少大陆上市公司都在购买光刻机。

责任编辑: 楚天  来源:联合报 转载请注明作者、出处並保持完整。

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