本周，美国公司Zyvex使用电子束光刻技术制造了0.7nm的芯片。使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。
