中共传出突破技术门槛，打造出极紫外光（EUV）微影设备原型机，被视为中国版曼哈顿计划，引发半导体业关注。不过，业界专家认为，这仅是追赶技术的第一步，是否能量产仍待观察，对产业短期影响有限，无须过度紧张。ASML、台积电等领先者仍将持续拉开差距。仅突破EUV光源，非完整机台专家指出...
