韩国三星电子在记忆体晶片制造上导入极紫外光（EUV）微影制程技术，使其记忆体晶片产能提高一倍，为20年来首次生产技术的革新。该公司也是第一家使用这项技术量产记忆体晶片的业者。
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三星宣布，已在邻近首尔的华城动态随机存取记忆体（DRAM）工厂导入EUV技术，目前已出货100万片DRAM，未来还会生产数百万片，年底前将会在另一座平泽市的DRAM厂也导入此技术。
三星在2000年代初期导入了现在广泛使用于微影制程装置的"氩氟雷射（ArF laser）"技术，但随着积体电路变得更小且更精密，这种技术已接近其使用寿命。透过改用EUV技术，三星将能在量产高阶半导体上取得领先。
三星的国内对手SK海力士也计画明年在DRAM生产线上导入EUV技术，该公司的记忆体晶片的产量上仅次于三星。
虽然三星是首家在记忆体晶片上使用这种新制程的公司，但台积电和英特尔早已使用该技术生产中央处理器（CPU）和其他处理器。
荷兰的晶片制造设备供应商艾斯摩尔（ASML）生产一部EUV设备，就要价超过1亿美元。三星打算利用其雄厚财力，增强在技术上的优势。
