荷兰的ASML（阿斯麦）公司是全球唯一可以生产极紫外（EUV）光刻机的公司。图为2018年4月17日ASML荷兰总部的实验室。(Emmanuel Dunand/AFP)
美中芯片战已经经历一段时间，最近媒体聚焦的是用于制造半导体的复杂而昂贵的芯片制造工具，美国正在联合日本和荷兰，携手阻止中共获取这种珍贵设备，遏制中共利用高端芯片发展武器和监视工具。
全球科技行业一些非常重要的机器是在位于荷兰玉米田旁的工厂里生产的。美国政府正在联合日本、荷兰等盟友，努力确保这些机器不会落到中共手里。
周五（1月27日），消息人士分别向彭博社和《金融时报》透露，美国、荷兰和日本已经达成限制向中共出口芯片制造工具的协议，以阻止中共军队开发先进武器。
什么是芯片制造工具？
一个芯片工厂可以包含1,000个或更多工具，每个工具都针对流程中的不同步骤进行调整。一个关键的芯片制造步骤称为光刻，涉及到的工具可能有双层巴士那么大，重量超过200吨。它们产生聚焦光束，在计算机芯片上形成微观电路，用于从手机和笔记本电脑到汽车和人工智能等各种日用和商用商品。
具体说，光刻技术是芯片制造商的核心所在，光刻相当于用光在硅晶圆上描摹网格状的绘线，然后将这些线条蚀刻掉，就好比用刀子在木头上雕刻一样，只不过光刻使用的是化学品。刻蚀后留下的硅方块成为晶体管。
一块芯片上的晶体管数量越多，这块芯片的功能就越强大。在芯片上刻蚀更多晶体管的最佳方法之一是将线刻得更细。这项技术正是荷兰公司ASML（阿斯麦）的专长。ASML的光刻机能够刻蚀出当今世界上最细的线条。
最大、最精密的光刻机需要三架波音747飞机分段运载，成本高达1.6亿美元。
芯片示意图(Shutterstock)
哪些公司制造光刻机？
对于光刻机而言，最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术先进次序可分为紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）三大类。
虽然应用材料公司（Applied Materials）、科磊公司（KLA）和泛林集团（LAM Research）等美国公司在芯片制造设备行业占据主导地位，但它们面临着来自东京电子等日本竞争对手的竞争。该工艺的某些部分，例如光刻，由荷兰公司ASML和日本的尼康和佳能主导，美国国内没有具备实力的竞争对手。
自2000年以来，ASML迅速从日本竞争对手手中抢走了市场份额，当前全球能够制造EUV光刻机的企业只有ASML一家企业，佳能、尼康仅能制造DUV光刻机。ASML控制着80%到90%以上的光刻机市场。因昂贵的开发成本，因此没有竞争对手会尝试构建最复杂的EUV系统。
佳能和尼康等竞争者只能生产老一代的芯片制造工具，尼康核心能力集中在最低端的UV（i－line）光刻机领域以及次高端的DUV领域。英特尔、三星电子和台积电认识到该技术在推动计算能力上的关键作用后，于2012年入股ASML。
