俄罗斯科学院旗下应用物理研究所声称将在2028年造出可生产7nm芯片的光刻机，大陆的半导体业界认为俄罗斯科学院“太过天真”。图为ASML的DUV光刻机。（图／ASML）
俄罗斯科学院发出豪语声称自行研发的光刻机将于2028年问世，可生产出7nm芯片。大陆半导体界人士对此表示，俄罗斯的想法似乎“太过天真”，俄罗斯想在6年内研发出可支持7nm芯片生产的光刻机可行性不高，且晶圆厂也不是光靠光刻机就可生产出芯片。
据《快科技》报导，俄罗斯入侵乌克兰后，国际上对俄罗斯进行多项禁运措施，包括半导体产品与技术，造成俄罗斯芯片短缺。加上美国、英国和欧盟也祭出多项制裁，几乎所有拥有先进芯片制造商都停止与俄罗斯实体合作，专注智慧财产授权的安谋（ARM）公司也无法将他们的技术授权给俄罗斯的芯片设计师。
报导说，俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构（Novgorod Strategy Development）发出豪语宣称，俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将在2028年开发出可以生产7nm芯片的光刻机，会跌破所有人眼镜，同时将击败荷兰顶尖光刻机制造商艾斯摩尔（ASML）同类产品。
俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。
大陆半导体业界人士表示，俄罗斯的想法似乎太过天真，俄罗斯想在6年内研发出可支持7nm晶光刻机可行性不高，且晶圆厂并非光靠光刻机就可生产出芯片，还需要许多设备，而俄罗斯并不生产这些设备。
