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中国资深芯片专家自曝:芯片缺的远远不只光刻机

—中国芯片缺的远远不只光刻机

美国颁布禁令迫使中国急欲寻求芯片产制自主,但专家分析,中国芯片产业不只缺光刻机还有人才,其他像是设备、材料、设计、封装、测试等领域,都需要更多人投入。

美国颁布禁令迫使中国急欲寻求芯片产制自主,但专家分析,中国芯片产业不只缺光刻机还有人才,其他像是设备、材料、设计、封装、测试等领域,都需要更多人投入。

中国媒体腾讯科技30日报道,中国资深芯片研究专家汪波表示,一个典型的芯片技术,从实验室研发到走向市场大约需要10年甚至更久,技术突破固然重要,稳定性、可制造性、良率也值得关注。

他说,即使是西方盟友之间也不可能分享最核心的芯片技术,只能通过自主研发,欧洲和日本的发展就是其中的例子。

而谈到当前中国自主研发芯片面临的瓶颈,汪波分析,中国不只缺高端光刻机以及相应的半导体材料,还急缺电子设计自动化(EDA)软体。

他说:“没有高端的EUV(极紫外光)光刻机,我们只是造不出最先进的芯片(芯片),而没有了EDA设计软件,所有的芯片设计公司都要停工。”

汪波表示,荷兰半导体生产设备制造商艾司摩尔(ASML)经过多次延迟,最终克服难以想像的困难,2018年制成人类史上最精密的光刻机,每台成本高达2亿美元。

他说,为打造EUV光刻机,艾司摩尔需要向全球数百家供应商采购零组件,而这些供应商又分布在荷兰、德国、日本、美国等世界各地,经通力合作才有了今天的EUV光刻机。

汪波表示,当然中国最缺的是人才,例如,EDA行业需要复合型的专才,既要懂写程式和计算、又要懂半导体装置或电路等,培养起来难且慢。

他说,此外,在芯片制造、设备、材料、设计、封装和测试等领域,都需要更多有志于面对挑战的人投入。

汪波指出,自主和全球化并行不悖,但芯片产品可借由全球化取得,但不可能借由全球化获得芯片核心技术。

他说,当前国际情势和趋势依然影响著芯片技术的发展,例如受到科技脱钩影响。

责任编辑: 方寻  来源:中央社 转载请注明作者、出处並保持完整。

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