美国前出口管制官员撰写的一份最新报告显示，近年来，中国半导体工厂囤积了价值数十亿美元的数百台浸没式“深紫外光刻机”（DUV）。图为2020年11月，荷兰设备制造商ASML参与上海进出口博览会。*
中共一直在投资巨资发展高端芯片设计和生产，但缺乏尖端光刻设备令中共野心受挫。9月底，美国前出口管制官员撰写的一份最新报告显示，近年来，中国半导体工厂囤积了价值数十亿美元的数百台浸没式“深紫外光刻机”（DUV）；这些前官员敦促美国政府及其盟友全面禁止向中企出口此类设备。
“技术与治国方略中心”（Center for Technology& Statecraft，简称CTS）9月26日发表新报告显示，先进光刻系统对于生产具有竞争力的AI芯片至关重要，但中国不太可能在2030年代中期之前实现这些系统的规模化商用。使得作为这些系统唯一生产者的美国及其盟友，在应对中共AI野心时拥有了巨大筹码。
由于无法购买荷兰设备制造商ASML最先进的“极紫外光刻机”（EUV），中国芯片制造商转而大量依赖浸没式DUV光刻机来生产高端半导体，这些浸没式DUV系统的部分型号未在西方出口禁令范围内。
报告说，目前美国政府却允许中国进口能够生产先进AI芯片的深紫外浸没式（DUVi）光刻系统，从而令中共积极利用这一契机，截至2026年初，中方已积累了大量且不断增长的此类设备库存。如果中国进口DUVi的步伐维持2024至2025年水平，那么在未来五到十年内，中国积累的光刻产能可能足以缩小、甚至消除美国及其盟友目前在人工智能（AI）芯片制造领域拥有的巨大优势。
该研究报告由美国前出口管制官员尼古拉斯‧布朗（Nicholas Brown）与曾任白宫及商务部技术政策顾问的赛义夫‧汗（Saif Khan）共同撰写。报告为美国政府关于西方盟友是否应全面禁止向中国出口浸没式DUV设备的争论，提供新的数据。
报告中的数据显示，截至2026年第一季度，中国本土芯片制造厂共拥有343台深紫外浸没式（DUVi）光刻系统。更广泛的估算（涵盖在中国运营的跨国公司晶圆厂）显示，此类设备总量约为396台，模型预测范围为361至444台。
CTS估算，中资晶圆厂拥有的设备包括约270台ASML NXT:1980i系统、22台NXT:2050i系统、6台NXT:2100i系统，以及45台技术水平较低的DUVi系统，总计343台。CTS估计，ASML占据了DUVi市场约99%的份额。
CTS评估认为，NXT:1980i机型具备支持生产7纳米逻辑芯片和HBM2e存储芯片的能力。该评估仅针对该特定机型，并不适用于估算总量中的每一台设备。
报告写道，中国对NXT:1980i设备的激增进口不仅占据ASML系统销售额的很大一部分，也需要中国芯片制造业投入巨额资金。在DUVi设备领域，中国在ASML出货量中的份额从2022年的26%，飙升至2024年第一季度至2026年第一季度期间的60%–70%。据估算，仅在2024年至2025年间，中方在NXT:1980i系统上的支出就超过了130亿美元。
报告作者指出，尽管这些设备在技术上落后于EUV，但经过调整后，它们可用于制造7纳米级逻辑芯片，以及用于人工智能处理器（包括华为的“昇腾”系列）的高级存储芯片。
报告写道，公开证据表明，至少部分中国先进晶圆厂仍在获取NXT:1980i系统。首先，安徽海关记录及来自第三方承包商的信息显示，中国主要DRAM及HBM制造商长鑫存储（CXMT）即便在荷兰于2024年开始实施全国性许可要求后，仍持续获取NXT:1980i系统。其次，华虹几乎肯定正在筹备投产一座7纳米逻辑芯片晶圆厂；这与公开报导相吻合，即该公司此前已获得一台NXT:2050i系统（若无先进工艺节点的生产计划，此类投资将毫无意义）。
荷兰于2023年9月开始要求对ASML的NXT:2000i及更先进的浸没式DUV光刻系统实行出口许可制度。自那时起，这些型号的设备实际上已被禁止出口至中国。一年后，荷兰将许可要求扩大到了NXT:1980i机型，但该机型的出口仍可按个案进行审批。
报告指出，这种做法留下一个重大漏洞。报告警告称，即使是仅用于成熟制程芯片制造的设备，也可能被重新利用或转移至先进生产线。
这份报告最后建议，美国只需进行一项简单的政策调整，即可避免这一局面：将现行针对DUVi（深紫外光刻设备）的局部管制措施，转变为针对所有DUVi对华出口的全面禁令，并辅以针对备件及维修服务的配套管制。
“此举将确保美国在先进人工智能芯片生产，及由此衍生的人工智能能力方面，保持至少十年的领先优势，并确保下一批先进晶圆厂建在美国及其盟国，而非中国。”报告说。
今年4月，美国国会提出的两党法案《Match Act》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act，硬体技术管制多边协调法案）（PDF），旨在对芯片制造设备实施全面对华销售及服务限制，明确针对浸没式DUV设备。法案规定，将禁止对中国、俄罗斯、朝鲜、伊朗与古巴等“关注国家”出口关键的芯片制造工具，包括DUV光刻机以及低温蚀刻设备（cryogenic etch tools）。这些设备目前被视为中共突破AI限制、实现“以量换质”的关键工具。
参议员们在9月再次呼吁通过该法。
