2026年7月29日，SK海力士位于韩国利川的工厂大楼上可以看到该公司的标志。
韩联社今天(8月9日)报导，韩国一名SK海力士公司的前员工，因向中国企业泄漏有关半导体制造技术的资讯，被判处18个月有期徒刑。韩联社表示，首尔高等法院对这起上诉案维持原判。法官认定，被告于2022年向一家中国公司泄漏了SK海力士的商业机密文件，违反了公司的安全规定。
被告曾在SK海力士驻中国办事处工作，法官认定，他从海力士内部服务器下载资料，将资料拍摄或打印下来，放在求职履历中，交给中国某家公司；那是海力士用于智慧手机相机、笔记型电脑的CMOS影像感测器的相关机密资料。法院并未公开中国公司名称。报导指出，被告已承认所有指控，SK海力士也追回他所带走的绝大部分资讯。
首尔高等法院未立即回复路透社的置评要求。