中美贸易战爆发以来，芯片生产技术一直为各界焦点，中国科学院研制的「超分辨曝光装备」日前通过验收，曝光分辨力达到22奈米，不少陆媒以「国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即」和「厉害了我的国，新式光刻机将打破『芯片荒』」之类为题，庆祝中国大陆不再受制于人。
然而「科技日报」却刊文批评，有些传播者为吸引眼球、赚钱，最爱制造「自嗨文」和「吓尿体」，听到国产科技成就先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。
报导指出，就芯片制作而言，光刻机（曝光机）作用在于「印刷」电路，就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部份，自曝光技术面世半个多世纪以来，为了节省能源和所需矽料，芯片愈做愈小，致使投影刻划难度愈来愈高，因而催生顶尖曝光机利用波长13.5奈米的极紫外光源，以刻划10奈米以下的线条。
报导认为，要制造稳定而大功率的「极紫外光」（EUV），每个光源需耗资人民币3000万元，至于顶尖「极紫外光」（EUV），更有一部卖一亿美金之誉，相关技术目前由荷兰ASML公司独家垄断。
有见及此，中科院研制曝光机，利用「表面等离子体」曝光法，在通行奈米光学技术外另辟蹊径，「用便宜光源实现较高的分辨率」。
报导引述科学家杨勇解说原理：「拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十奈米的电磁波，可用来曝光。」
不过这种这种电磁波很弱，需要「曝光胶」材料得凑近了，才能刻出来，且加工精度及不上市面「极紫外曝光机」，无法刻出几十奈米级的芯片。
报导最后结论，中科院的22奈米解析度曝光机，跟ASML垄断的曝光机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说大陆出了个竞走名将，要超越牙买加短跑运动员博尔特。
国产曝光机被誉打破「芯片荒」，却遭打脸是「驴吹成马」。
