应用材料公司(Applied Materials)公布了一项突破性的图案化(patterning)技术,称为Centura Sculpta系统,核心是“pattern shaping”的新工艺步骤,可协助芯片制造商以更少的EUV光刻步骤生产高性能的晶体管和内连布线(interconnect wiring),从而降低先进芯片制程的成本、复杂性和环境影响性。
大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电?这个问题是说十年内,二十年内还是一百年内? 我目前就在ASML公司工作,做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧,咱们先别说把(EUV)光刻机给造出来,就是把(EUV)光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。