美国正试图说服荷兰政府，禁止向中企销售DUV光刻机，如果成功的话，这将重挫中共试图主导世界半导体生产的野心。图为2021年3月17日，江苏省南通市一家工厂生产芯片。(STR/AFP)
美国官员正试图说服荷兰政府，以禁止向中企销售荷兰制造的深紫外光（DUV）光刻机，如果成功的话，这将重挫中共当局试图主导世界半导体生产的野心。
总部位于荷兰的艾司摩尔（ASML）是世界上最大的光刻机（Mask Aligner，又称曝光机）制造商，这是一种半导体制造的关键装置。
根据目前的限制，ASML不得向中企出售他们最先进的极紫外光（EUV）光刻机。彭博社在报导中指出（链接），美国官员正试图说服荷兰官员扩大限制，禁止向中企销售较低阶的深紫外光（DUV）光刻机。
仅管DUV光刻机技术较为落后，但其制造出来的芯片，仍可用于电动车、移动电子设备、电脑甚至机器人等设备。
一旦通过这项举措，意味着荷兰将禁止ASML向中企销售几乎所有的光刻机，这对北京来说，将是一个重大挫折。
消息人士向彭博社透露，美国商务部副部长唐‧格雷夫斯（Don Graves）在5月下旬与6月初访问荷兰和比利时之际，即提出了这个提议。在这次访问中，格雷夫斯还参观了ASML总部，并会见了首席执行官彼得‧温尼克（Peter Wennink）。
不过，说服荷兰政府扩大禁令并不容易。据彭博社汇编的数据，中国或国际公司经营的中国工厂订单，约占ASML2021年总收入的14.7%。
温尼克今年早先时候说，ASML反对禁止向中企销售DUV光刻机。他说，这已是一项成熟的技术，世界上其它公司也能生产类似设备。
DUV光刻机可分为两个大类，分别是浸入式和干燥式，浸入式称为氟化氩浸入式（argon fluoride immersion）光刻机，或简称为ArFi光刻机。
据中国方正证券统计，ASML在2021年售出了81套ArFi系统，而日本的尼康公司只售出了4套，这意味着这间荷兰公司拥有约95%的市场份额，若他们停止向中国销售，其它公司无法很快取代它们。
美国官员认为，现代芯片封装技术的进步，使中企有能力设计和生产相当复杂的芯片，这可能推动中国的超级计算，并最终推动其军事技术发展。
台湾经济研究院分析师Johnson Wang表示：“对于半导体制造来说，光刻设备是中国最难取得替代品的设备。若无法取得国外的DUV光刻设备，中国芯片产业的进展可能停滞不前。”
